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  • Gaskleen 6101

    PALLModèle : GLFPF/SGLFPF6101
    Gammes de débit :
    0…250SLM
    Pression max :
    52 bar
    Seuil de filtration :
    3nm
    Média filtrant :
    PTFE
    Description produit :
    Les filtres Gaskleen 6101 sont conçu pour la filtration de gaz jusqu'à 250SLM au point d'utilisation.
    - Corps en inox 316L
    - Média en fluoropolymère
    - Version compacte disponible
  • Gaskleen II

    PALLModèle : GLP2
    Gammes de débit :
    0…3 SLM
    Pression d'entrée max :
    69 Bar
    Seuil de purification :
    1ppb H2O,CO,CO2,O2
    Seuil de filtration :
    3nm
    Description produit :
    Le purificateur de gaz Gaskleen II de Pall est un véritable purificateur au point d'utilisation. Il est conçu pour éliminer les contaminants de nombreux gaz de process. Le purificateur est capable d'atteindre des niveaux de purification de l'ordre du ppb. il est conçu pour des débits allant jusqu'à 3 splm, tout en fournissant une filtration de 3 nm.
  • Gaskleen light

    PALLModèle : TFA/STFA6
    Gammes de débit :
    0…1200SLM
    Pression max :
    52 bar
    Seuil de filtration :
    3nm
    Média filtrant :
    PTFE
    Description produit :
    Les filtres Gaskleen Ligth TFA6 ont spécialement étaient concus pour la filtration des gaz process dans les domaines du photovoltaïque et des écrans LCD
    - Corps en inox et média filtrant en PTFE
    - Compatible haute pression et haute température
  • Gaskleen série PG

    PALLModèle : PG série
    Gammes de débit :
    0…1000SLM
    Pression d'entrée max :
    PG550/PG2400 : 34.5 Bar
    PG11000 : 17.2 Bar
    Seuil de purification :
    1ppb H2O,CO,CO2,O2
    Seuil de filtration :
    PG550 et PG2400: 3nm
    PG11000: 0.4µm
    Description produit :
    Les purificateurs de gaz Gaskleen série PG de Pall ont été concus pour traiter des débits de gaz allant jusqu'à 1000SLM. Il est conçu pour éliminer les contaminants de nombreux gaz de process. Les purificateurs sont capables d'atteindre des niveaux de purification de l'ordre du ppb. Un ensemble de vannes de by-pass et supports sont disponible en option pour faciliter la mise en oeuvre.
  • Gaskleen ST

    PALLModèle : GLP5
    Gammes de débit :
    0…5 SLM
    Pression d'entrée max :
    152 Bar
    Seuil de purification :
    1ppb H2O,CO,CO2,O2
    Seuil de filtration :
    3nm
    Description produit :
    Le purificateur de gaz Gaskleen ST de Pall est un véritable purificateur au point d'utilisation. Il est conçu pour éliminer les contaminants de nombreux gaz de process. Le purificateur est capable d'atteindre des niveaux de purification de l'ordre du ppb. il est conçu pour des débits allant jusqu'à 5 splm, tout en fournissant une filtration de 3 nm.
  • Gaskleen V

    PALLModèle : SGLFPF6501
    Gammes de débit :
    0…1200SLM
    Pression max :
    52 bar
    Seuil de filtration :
    3nm
    Média filtrant :
    PTFE
    Description produit :
    Les filtres Gaskleen V sont les derniers nés de la famille Gaskleen. Ils sont spécialement conçus pour la filtration des gaz process du domaine du semi-conducteur. leur design a permis l’élimination des joints toriques à l'intérieur.
  • Générateur DC Pinnacle

    Advanced EnergyModèle : Pinnacle®
    Puissance de 6 à 20 kW
    Tension jusqu'à 1000 Vdc (sans tap)
    Version simple et double sortie
    Description produit :
    Les générateurs Pinnacle® DC, qui ont fait leurs preuves sur le terrain, offrent un contrôle remarquable des processus, ce qui réduit considérablement les variations et augmente les rendements. Ce boîtier compact et polyvalent offre une gestion exceptionnelle des arcs avec une faible énergie stockée, une réponse rapide aux arcs et une large plage d'impédance à pleine puissance.
  • Générateur AC

    Advanced EnergyModèle : Crystal
    Produit Obsolète
    Description produit :
  • Générateur Ascent AP

    Advanced EnergyModèle : Ascent® AP
    Puissance de 15 ou 30 kW
    Tension jusqu'à 1000 Vdc
    Frequence de 0.5 à 150 kHz
    Version simple ou double magnetron
    Description produit :
    Les alimentations Ascent® AP offrent un contrôle sans précédent du plasma dans une solution compacte pour la pulvérisation à magnétron unique et à magnétron double. La technologie pulsée brevetée d'Advanced Energy permet une prévention remarquable des arcs, des niveaux de puissance plus élevés et un débit accru. Les paramètres de contrôle complets et la large gamme opérationnelle de l'Ascent AP permettent de débloquer des options de matériaux afin d'étendre la flexibilité du processus et l'innovation en matière de matériaux.

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